وبلاگ

تکه هایی از متن پایان نامه به عنوان نمونه :

(ممکن است هنگام انتقال از فایل اصلی به داخل سایت بعضی متون به هم بریزد یا بعضی نمادها و اشکال درج نشود ولی در فایل دانلودی همه چیز مرتب و کامل است)

فهرست مطالب:

چکیده…………………………………………………………………………………………….. 1

فصل اول: معرفی دستگاه پلاسمای کانونی

مقدمه…………………………………………………………………………………………… 3

پلاسما ………………………………………………………………………………………….. 4

پینچ …………………………………………………………………………………………… 5

پلاسمای کانونی……………………………………………………………………… 5

معرفی عمومی پلاسمای کانونی………………………………………………………… 7

مشخصات کلی پلاسمای کانونی شده…………………………………………………… 8

چهار بخش اساسی در دستگاه پلاسمای کانونی…………………………………… 9

دستگاه پلاسمای کانونی نوع مدر و فیلیپوف……………………………………… 10

برخی کاربردهای دستگاه پلاسمای کانونی…………………………………………. 11

دینامیک دستگاه پلاسمای کانونی……………………………………………….. 12

عملکرد پلاسمای کانونی………………………………………………………….. 14

فاز شکست……………………………………………………………………………. 15

فاز رانش محوری………………………………………………………………… 16

فاز شعاعی…………………………………………………………………………. 17

1- فاز تراکم……………………………………………………………………………. 18

2- فاز ساکن………………………………………………………………………… 21

3- فاز ناپایداری……………………………………………………………………… 22

4- فاز فروپاشی…………………………………………………………… 23

عوامل مؤثر در کارآیی سیستم‌های پلاسمای کانونی…………………….. 24

پرتوهای ساطع شده از سیستم پلاسمای کانونی……………………… 26

پرتو ایکس……………………………………………………………………………. 26

تولید نوترون………………………………………………………………………… 27

تولید یون…………………………………………………………………………….. 28

فصل دوم: برخی روش‌های لایه‌نشانی و دستگاه‌های آنالیز فیلم‌های نازک لایه‌نشانی شده

تکه هایی از متن پایان نامه به عنوان نمونه : (ممکن است هنگام انتقال از فایل اصلی به داخل سایت بعضی متون به هم بریزد یا بعضی نمادها و اشکال درج نشود ولی در فایل دانلودی همه چیز مرتب و کامل است) فهرست مطالب: چکیده…………………………………………………………………………………………….. 1 فصل اول: معرفی دستگاه پلاسمای کانونی مقدمه…………………………………………………………………………………………… 3 پلاسما ………………………………………………………………………………………….. 4 پینچ …………………………………………………………………………………………… 5 پلاسمای کانونی……………………………………………………………………… 5 معرفی عمومی پلاسمای کانونی………………………………………………………… 7 مشخصات کلی پلاسمای کانونی شده…………………………………………………… 8 چهار بخش اساسی در دستگاه پلاسمای کانونی…………………………………… 9 دستگاه پلاسمای کانونی نوع مدر و فیلیپوف……………………………………… 10 برخی کاربردهای دستگاه پلاسمای کانونی…………………………………………. 11 دینامیک دستگاه پلاسمای کانونی……………………………………………….. 12 عملکرد پلاسمای کانونی………………………………………………………….. 14 فاز شکست……………………………………………………………………………. 15 فاز رانش محوری………………………………………………………………… 16 فاز شعاعی…………………………………………………………………………. 17 1- فاز تراکم……………………………………………………………………………. 18 2- فاز ساکن………………………………………………………………………… 21 3- فاز ناپایداری……………………………………………………………………… 22 4- فاز فروپاشی…………………………………………………………… 23 عوامل مؤثر در کارآیی سیستم‌های پلاسمای کانونی…………………….. 24 پرتوهای ساطع شده از سیستم پلاسمای کانونی……………………… 26 پرتو ایکس……………………………………………………………………………. 26 تولید نوترون………………………………………………………………………… 27 تولید یون…………………………………………………………………………….. 28 فصل دوم: برخی روش‌های لایه‌نشانی و دستگاه‌های آنالیز فیلم‌های نازک لایه‌نشانی شده 2-1- برخی روش‌های لایه نشانی…………………………………………………. 31 2-1-1- کندوپاش…………………………………………………………………… 31 2-1-2- کندوپاش به‌وسیله پلاسما ……………………………………………………. 32 2-1-3- کندوپاش پرتو یونی…………………………………………………………… 32 2-1-4- روش تبخیر فیزیکی (PVD) ……………………………………………… 33 2-1-5- روش تبخیر شیمیایی (CVD)………………………………………………. 33 2-1-6- روش تبخیر گرمایی………………………………………………………….. 33 2-1-7- لایه‌نشانی به‌وسیله پلاسمای کانونی………………………………………. 37 2-2- برخی دستگاه‌های آنالیز جهت بررسی فیلم‌های نازک لایه‌نشانی شده……… 40 2-2-1- میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)…………………………………….. 40 الکترون‌های بازگشتی…………………………………………………………………… 41 الکترون‌های ثانویه……………………………………………………………………….. 41 الکترون‌های اوژه………………………………………………………………………….. 42 2-2-2- میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM)………………………………………………. 42 2-2-3- دستگاه پراش پرتوی ایکس (XRD)………………………………………. 43 فصل سوم: برخی تحقیقات انجام شده جهت لایه‌نشانی توسط دستگاه پلاسمای کانونی 3-1- تشکیل کربیدتیتانیوم (TiC) برروی لایه تیتانیوم از طریق کاشت یون…………. 48 3-2- تشکیل کربید سیلیکون برروی زیرلایه سیلیسیوم از طریق کاشت یون……. 50 3-3- تأثیر تابش پالس‌های یونی پرانرژی برروی زیرلایه سیلیسیوم………………… 54 3-4- بهینه‌سازی دستگاه پلاسمای کانونی به‌عنوان منبع پرتوی الکترونی برای لایه‌نشانی فیلم‌های نازک…..57 3-5- نیتریده‌سازی به کمک دستگاه پلاسمای کانونی…………………………….. 60 3-6- لایه‌نشانی نانولایه‌ها بوله دستگاه پلاسمای کانونی…………………………. 70 فصل چهارم: روش تحقیق و نتیجه‌گیری 4-1- معرفی دستگاه پلاسمای کانونی مرکز تحقیقات فیزیک پلاسما………………. 75 4-2- فرآیند تولید لایه‌های نازک نیترید آلومینیوم با استفاده از دستگاه پلاسمای کانونی…. 75 4-2-1- آماده‌سازی و تمیزکاری زیرلایه‌های استیل 304…………………………. 75 4-2-1- نحوه انجام آزمایش …………………………………………………………. 76 چیدمان آزمایش جهت لایه نشانی نیترید آلومینیوم…………………………….. 77 متغیرهای مورد بررسی، در لایه‌نشانی نیترید آلومینیوم………………………. 77 آنالیزهای صورت گرفته برروی فیلم‌های لایه‌نشانی شده……………………… 77 آنالیز لایه‌های نازک نیترید آلومینیوم تولید شده، با استفاده از دستگاه پراش اشعه ایکس….. 78 آنالیز لایه‌های نازک نیترید آلومینیوم تولید شده، با استفاده از دستگاه میکروسکوپ نیروی اتمی…82 نتایج AFM…………………………………………………………………… آنالیز لایه‌های نازک نیترید آلومینیوم تولید شده، با استفاده از دستگاه میکروسکوپ الکترونی روبشی…..87 نتیجه‌گیری…………………………………………………………………………………… 90 برخی پیشنهادات تحقیقاتی………………………………………………………………. 90 چکیده: لایه‌های نازک نیترید آلومینیوم بر روی زیرلایه‌های استیل 304 شرایط آزمایش: زوایای مختلف نسبت به محور آند (0، 15 و 30) در فاصله cm5 نسبت به نوک آند با استفاده از تعداد 25 شات آنالیزها: XRD ، AFM ، SEM در این تحقیق، لایه های نازک نیترید آلومینیوم بر روی زیرلایه های استیل 304 با استفاده از دستگاه پلاسمای کانونی پوشش داده شده است. پس از تولید لایه های نازک، نمونه ها به منظور بررسی خصوصیات لایه، به وسیله دستگاه پراش پرتو ایکس، میکروسکوپ های الکترونی روبشی و نیروی اتمی مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج تحقیق نشان می دهد که تغییر تعداد شات ها، فاصله زیرلایه ها از نوک آند و همچنین زاویه قرار گرفتن زیرلایه ها نسبت به محور آند، نقش مهمی در خصوصیات لایه های تولید شده دارند. نمونه های بدست آمده در زوایای مختلف نسبت به محور آند (0، 15 و 30) در فاصله 5 سانتی‌متر از نوک آند و با استفاده از تعداد 25 شات نشان می‌دهد که با افزایش زاویه از صفر به 15 و سپس 30، شاهد کاهش بلورینگی، فیلم‌های لایه نشانی شده هستیم. نتایج حاصل از بررسی مورفولوژی سطح فیلم‌های لایه‌نشانی شده در زاوایای مختلف نسبت به نحور آند توسط میکروسکوپ نیروی اتمی نشان می‌دهند که نمونه لایه‌نشانی شده در زاویه °15 دارای سطحی نسبتاً یکنواخت متشکل از دانه‌هایی در اندازه‌های نسبتاً یکسان می‌باشد. فصل اول: معرفی دستگاه پلاسمای کانونی مقدمه: اگر چه نمی توان منکر استفاده از انرژی های تجدید ناپذیر از قبیل انرژی باد، خورشید و … شد، اما نمی توان غول صنعت را فقط با انرژی های تجدید ناپذیر سیر کرد. بعلاوه منابع اولیه انرژی های شناخته شده در روی کره زمین فقط برای پانصد سال کفایت خواهد کرد و وسایل زیست محیطی چنان دست و پای بشر را بسته است که متخصصان امر، همین پانصد سال را نیز ناشدنی می پندارند و بنابراین باید در جستجوی منبع انرژی دیگری بود. امروزه پیشرفت روز افزون بشر سبب شده است که نیاز انسان به تأمین انرژی به حدی زیاد شود که سوخت های فسیلی دیگر نتوانند جوابگوی نیازهای صنعتی باشند. از اینرو متخصصان و دانشمندان به فکر استفاده از انرژی های هسته ای افتاده اند. فرایند شکاف هسته ای که هم اینک در راکتورهای تولید انرژی مورد استفاده قرار می گیرد به علت تولی زباله های رادیواکتیو چندان مورد پسند نیستند، در حالیکه فرایند هم جوشی هسته ای بسیار از این جهت مطلوب تر می باشد زیرا که منجر به محصولاتی می شود که مانند زباله های حاصل از شکاف هسته ای خطرناک نمی باشند. از این رو به علت پاک بودن این انرژی توجه زیادی به آن می شود. در راستای انجام تحقیقاتی برای دستیابی به این تکنولوژی دستگاه پلاسمای کانونی ساخته شد. این دستگاه در ابتدا به عنوان منبع تولید نوترون های پر انرژی ساخته شد ولی پس از مدتی به عنوان یک دستگاه کم هزینه و با کاربردهای چندگانه مورد توجه دانشمندان و به خصوص دانشمندان کشورهای در حال توسعه قرار گرفت. دستگاه پلاسمای کانونی در اواخر دهه 1985، اوایل دهه 1960، توسط فیزیکدانان اولی (فیلیپوف) و فیزکدانان آمریکایی (مدر) ساخته شد و به سرعت به عنوان دستگاهی کارا و جالب برای تولید پلاسما و تابش های آن مورد توجه قرار گرفت. پلاسمای کانونی (PF) از هنگام اختراعش در دهه 1960 قویترین چشمه پلاسمایی نوترون به شمار می رفت، تا اینکه با اختراع روش گرمایش توکامک با اشعه خنثی این دستگاه جای پلاسمای کانونی را به عنوان قویترین چشمه پلاسمایی نوترون گرفت. ولی ارزانی و سادگی سیستم پلاسمای کانونی باعث شده که برای استفاده های مختلفی مورد توجه قرار گیرد. حتی آژانس بین المللی انرژی اتمی نوعی از این دستگاه ها را برای جهان سوم طراحی کرد. دستگاه پلاسمای کانونی می تواند به عنوان منبع تولید اشعه ایکس سخت و نرم به کار رود که به علت پالسی بودن این اشعه می تواند برای عکسبرداری از وسایل سریع مانند موتور هواپیما به کار رود. از دیگر کاربردهای این دستگاه تولید الکترون و یون می باشد که فرآیند تولید آنها در بخش های بعدی توضیح داده می شود. یون های حاصل از این دستگاه می تواند برای کاشت یون استفاده شود. البته مهمترین کاربرد دستگاه پلاسمای کانونی، تحقیقات راجع به همجوشی هسته ای در هسته های سبک از قبیل دوتریم، تریتیم، هلیم و لیتیم است. پلاسما: پلاسما حالت گازی شکل از ماده است که در آن بر اثر دمای زیاد، اتم های ماده یونیزه شده و گازی متشکل از الکترون ها و یون ها، تولید می شود. با تبدیل شدن یک ماده به پلاسما، خواص جدیدی در آن ظاهر می شود. بر خلاف گازهای معمولی ( که اتم خنثی دارند)، پلاسما می تواند هادی جریان الکتریکی باشد، از خود نور گسیل کند، تحت تأثیر امواج الکترومغناطیسی قرار بگیرد و رفتار جمعی از خود نشان دهد که نه تنها به شرایط موضعی بلکه به حالت پلاسما در مناطق دور نیز بستگی دارد. پینچ (pinch): پینچ پلاسما در حقیقت فشرده شدن پلاسما توسط میدان مغناطیسی ناشی از جریان الکتریکی می باشد. در سیستم های پلاسمای کانونی که در بخش بعد توضیح داده خواهد شد، یک جریان الکتریکی نسبتاً زیاد به هنگام تخلیه الکتریکی در داخل پلاسما ایجاد می شود که در اثر بر هم کنش با میدان مغناطیسی بوجود آمده از میدان الکتریکی فشرده می شود و پلاسمای موجود در سیستم را نیز فشرده می نماید. این پدیده به اثر پینچ در پلاسما معروف است. اثر پینچ اساس محصور سازی مغناطیسی پلاسما در سیستم هایی نظیر پینچ در راستای z ، پینچ در راستایө و پلاسمای کانونی می باشد. به این ترتیب می توان گفت که عامل اصلی پینچ پلاسما، بر هم کنش یک جریان الکتریکی قوی با میدان مغناطیسی ناشی از خود آن می باشد. پلاسمای کانونی:

2-1- برخی روش‌های لایه نشانی…………………………………………………. 31

2-1-1- کندوپاش…………………………………………………………………… 31

2-1-2- کندوپاش به‌وسیله پلاسما ……………………………………………………. 32

2-1-3- کندوپاش پرتو یونی…………………………………………………………… 32

2-1-4- روش تبخیر فیزیکی (PVD) ……………………………………………… 33

2-1-5- روش تبخیر شیمیایی (CVD)………………………………………………. 33

2-1-6- روش تبخیر گرمایی………………………………………………………….. 33

2-1-7- لایه‌نشانی به‌وسیله پلاسمای کانونی………………………………………. 37

2-2- برخی دستگاه‌های آنالیز جهت بررسی فیلم‌های نازک لایه‌نشانی شده……… 40

2-2-1- میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)…………………………………….. 40

الکترون‌های بازگشتی…………………………………………………………………… 41

الکترون‌های ثانویه……………………………………………………………………….. 41

الکترون‌های اوژه………………………………………………………………………….. 42

2-2-2- میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM)………………………………………………. 42

2-2-3- دستگاه پراش پرتوی ایکس (XRD)………………………………………. 43

فصل سوم: برخی تحقیقات انجام شده جهت لایه‌نشانی توسط دستگاه پلاسمای کانونی

3-1- تشکیل کربیدتیتانیوم (TiC) برروی لایه تیتانیوم از طریق کاشت یون…………. 48

3-2- تشکیل کربید سیلیکون برروی زیرلایه سیلیسیوم از طریق کاشت یون……. 50

3-3- تأثیر تابش پالس‌های یونی پرانرژی برروی زیرلایه سیلیسیوم………………… 54

3-4- بهینه‌سازی دستگاه پلاسمای کانونی به‌عنوان منبع پرتوی الکترونی برای لایه‌نشانی فیلم‌های نازک…..57

3-5- نیتریده‌سازی به کمک دستگاه پلاسمای کانونی…………………………….. 60

3-6- لایه‌نشانی نانولایه‌ها بوله دستگاه پلاسمای کانونی…………………………. 70

فصل چهارم: روش تحقیق و نتیجه‌گیری

4-1- معرفی دستگاه پلاسمای کانونی مرکز تحقیقات فیزیک پلاسما………………. 75

4-2- فرآیند تولید لایه‌های نازک نیترید آلومینیوم با استفاده از دستگاه پلاسمای کانونی…. 75

4-2-1- آماده‌سازی و تمیزکاری زیرلایه‌های استیل 304…………………………. 75

4-2-1- نحوه انجام آزمایش …………………………………………………………. 76

چیدمان آزمایش جهت لایه نشانی نیترید آلومینیوم…………………………….. 77

متغیرهای مورد بررسی، در لایه‌نشانی نیترید آلومینیوم………………………. 77

آنالیزهای صورت گرفته برروی فیلم‌های لایه‌نشانی شده……………………… 77

آنالیز لایه‌های نازک نیترید آلومینیوم تولید شده، با استفاده از دستگاه پراش اشعه ایکس….. 78

آنالیز لایه‌های نازک نیترید آلومینیوم تولید شده، با استفاده از دستگاه میکروسکوپ نیروی اتمی…82

نتایج AFM……………………………………………………………………

آنالیز لایه‌های نازک نیترید آلومینیوم تولید شده، با استفاده از دستگاه میکروسکوپ الکترونی روبشی…..87

نتیجه‌گیری…………………………………………………………………………………… 90

برخی پیشنهادات تحقیقاتی………………………………………………………………. 90

چکیده:

لایه‌های نازک نیترید آلومینیوم بر روی زیرلایه‌های استیل 304

شرایط آزمایش: زوایای مختلف نسبت به محور آند (0، 15 و 30) در فاصله cm5 نسبت به نوک آند با استفاده از تعداد 25 شات

آنالیزها: XRD ، AFM ، SEM

در این تحقیق، لایه های نازک نیترید آلومینیوم بر روی زیرلایه های استیل 304 با استفاده از دستگاه پلاسمای کانونی پوشش داده شده است. پس از تولید لایه های نازک، نمونه ها به منظور بررسی خصوصیات لایه، به وسیله دستگاه پراش پرتو ایکس، میکروسکوپ های الکترونی روبشی و نیروی اتمی مورد مطالعه قرار گرفتند.

نتایج تحقیق نشان می دهد که تغییر تعداد شات ها، فاصله زیرلایه ها از نوک آند و همچنین زاویه قرار گرفتن زیرلایه ها نسبت به محور آند، نقش مهمی در خصوصیات لایه های تولید شده دارند.

نمونه های بدست آمده در زوایای مختلف نسبت  به محور آند (0، 15 و 30) در فاصله 5 سانتی‌متر از نوک آند و با استفاده از تعداد 25 شات نشان می‌دهد که با افزایش زاویه از صفر به 15 و سپس 30، شاهد کاهش بلورینگی، فیلم‌های لایه نشانی شده هستیم. نتایج حاصل از بررسی مورفولوژی سطح فیلم‌های لایه‌نشانی شده در زاوایای مختلف نسبت به نحور آند توسط میکروسکوپ نیروی اتمی نشان می‌دهند که نمونه لایه‌نشانی شده در زاویه °15 دارای سطحی نسبتاً یکنواخت متشکل از دانه‌هایی در اندازه‌های نسبتاً یکسان می‌باشد.

فصل اول: معرفی دستگاه پلاسمای کانونی

مقدمه:

اگر چه نمی توان منکر استفاده از انرژی های تجدید ناپذیر از قبیل انرژی باد، خورشید و … شد، اما نمی توان غول صنعت را فقط با انرژی های تجدید ناپذیر سیر کرد. بعلاوه منابع اولیه انرژی های شناخته شده در روی کره زمین فقط برای پانصد سال کفایت خواهد کرد و وسایل زیست محیطی چنان دست و پای بشر را بسته است که متخصصان امر، همین پانصد سال را نیز ناشدنی می پندارند و بنابراین باید در جستجوی منبع انرژی دیگری بود.

امروزه پیشرفت روز افزون بشر سبب شده است که نیاز انسان به تأمین انرژی به حدی زیاد شود که سوخت های فسیلی دیگر نتوانند جوابگوی نیازهای صنعتی باشند. از اینرو متخصصان و دانشمندان به فکر استفاده از انرژی های هسته ای افتاده اند. فرایند شکاف هسته ای که هم اینک در راکتورهای تولید انرژی مورد استفاده قرار می گیرد به علت تولی زباله های رادیواکتیو چندان مورد پسند نیستند، در حالیکه فرایند هم جوشی هسته ای بسیار از این جهت مطلوب تر می باشد زیرا که منجر به محصولاتی می شود که مانند زباله های حاصل از شکاف هسته ای خطرناک نمی باشند. از این رو به علت پاک بودن این انرژی توجه زیادی به آن می شود.

در راستای انجام تحقیقاتی برای دستیابی به این تکنولوژی دستگاه پلاسمای کانونی ساخته شد. این دستگاه در ابتدا به عنوان منبع تولید نوترون های پر انرژی ساخته شد ولی پس از مدتی به عنوان یک دستگاه کم هزینه و با کاربردهای چندگانه مورد توجه دانشمندان و به خصوص دانشمندان کشورهای در حال توسعه قرار گرفت.

دستگاه پلاسمای کانونی در اواخر دهه 1985، اوایل دهه 1960، توسط فیزیکدانان اولی (فیلیپوف) و فیزکدانان آمریکایی (مدر) ساخته شد و به سرعت به عنوان دستگاهی کارا و جالب برای تولید پلاسما و تابش های آن مورد توجه قرار گرفت. پلاسمای کانونی (PF) از هنگام اختراعش در دهه 1960 قویترین چشمه پلاسمایی نوترون به شمار می رفت، تا اینکه با اختراع روش گرمایش توکامک با اشعه خنثی این دستگاه جای پلاسمای کانونی را به عنوان قویترین چشمه پلاسمایی نوترون گرفت. ولی ارزانی و سادگی سیستم پلاسمای کانونی باعث شده که برای استفاده های مختلفی مورد توجه قرار گیرد. حتی آژانس بین المللی انرژی اتمی نوعی از این دستگاه ها را برای جهان سوم طراحی کرد.

دستگاه پلاسمای کانونی می تواند به عنوان منبع تولید اشعه ایکس سخت و نرم به کار رود  که به علت پالسی بودن این اشعه می تواند برای عکسبرداری از وسایل سریع مانند موتور هواپیما به کار رود. از دیگر کاربردهای این دستگاه تولید الکترون و یون می باشد که فرآیند تولید آنها در بخش های بعدی توضیح داده می شود.

یون های حاصل از این دستگاه می تواند برای کاشت یون استفاده شود. البته مهمترین کاربرد دستگاه پلاسمای کانونی، تحقیقات راجع به همجوشی هسته ای در هسته های سبک از قبیل دوتریم، تریتیم، هلیم و لیتیم است.

پلاسما:

پلاسما حالت گازی شکل از ماده است که در آن بر اثر دمای زیاد، اتم های ماده یونیزه شده و گازی متشکل از الکترون ها و یون ها، تولید می شود. با تبدیل شدن یک ماده به پلاسما، خواص جدیدی در آن ظاهر می شود. بر خلاف گازهای معمولی ( که اتم خنثی دارند)، پلاسما می تواند هادی جریان الکتریکی باشد، از خود نور گسیل کند، تحت تأثیر امواج الکترومغناطیسی قرار بگیرد و رفتار جمعی از خود نشان دهد که نه تنها به شرایط موضعی بلکه به حالت پلاسما در مناطق دور نیز بستگی دارد.

پینچ (pinch):

پینچ پلاسما در حقیقت فشرده شدن پلاسما توسط میدان مغناطیسی ناشی از جریان الکتریکی می باشد. در سیستم های پلاسمای کانونی که در بخش بعد توضیح داده خواهد شد، یک جریان الکتریکی نسبتاً زیاد به هنگام تخلیه الکتریکی در داخل پلاسما ایجاد می شود که در اثر بر هم کنش با میدان مغناطیسی بوجود آمده از میدان الکتریکی فشرده می شود و پلاسمای موجود در سیستم را نیز فشرده می نماید. این پدیده به اثر پینچ در پلاسما معروف است. اثر پینچ اساس محصور سازی مغناطیسی پلاسما در سیستم هایی نظیر پینچ در راستای z ، پینچ در راستایө و پلاسمای کانونی می باشد. به این ترتیب می توان گفت که عامل اصلی پینچ پلاسما، بر هم کنش یک جریان الکتریکی قوی با میدان مغناطیسی ناشی از خود آن می باشد.

پلاسمای کانونی: